Szilícium ostya osztályozás

Fizikai tisztítás
A fizikai tisztításnak három módja van. ① Kefélés vagy súrolás: eltávolíthatja a részecskék szennyeződését és az ostyára tapadt filmek többségét. ② Nagynyomású tisztítás: folyadékot permeteznek az ostya felületére, és a fúvóka nyomása akár több száz atmoszféra is lehet. A nagynyomású tisztítás a permetezésen múlik, és az ostyát nem könnyű megkarcolni vagy megsérülni. A nagynyomású permetezés azonban statikus elektromosságot termel, ami elkerülhető a fúvóka és az ostya közötti távolság és szög beállításával vagy antisztatikus szerek hozzáadásával. ③ Ultrahangos tisztítás: ultrahangos hangenergiát továbbítanak az oldatba, és az ostyán lévő szennyeződést kavitáció eltávolítja. A mintás ostyából azonban nehezebb eltávolítani az 1 mikronnál kisebb részecskéket. A frekvencia ultramagas frekvenciasávra való növelésével jobb tisztítóhatás érhető el.
Kémiai tisztítás
A vegyi tisztítás célja az atomok és ionok láthatatlan szennyeződéseinek eltávolítása. Számos módszer létezik, beleértve az oldószeres extrakciót, a pácolást (kénsav, salétromsav, aqua regia, különféle kevert savak stb.) és a plazmamódszert. Közülük a hidrogén-peroxidos rendszer tisztítási módszere jó hatású és kevésbé szennyezi a környezetet. Az általános módszer az, hogy a szilícium ostyát először savas folyadékkal tisztítják meg, amelynek összetétele H2SO4:H2O2=5:1 vagy 4:1. A tisztítóoldat erős oxidáló tulajdonsága lebontja és eltávolítja a szerves anyagokat; ultratiszta vizes öblítés után H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1 vagy 5:1:1 vagy 7:2:1 összetételű lúgos tisztítóoldattal megtisztítják. A H2O2 oxidációja és az NH4OH komplexképződése miatt sok fémion stabil oldható komplexeket képez, és vízben oldódik; majd savas tisztítóoldatot használunk H2O:H2O2:HCL=7:2:1 vagy 5:2:1 összetételű. A H2O2 oxidációja és a sósav oldódása, valamint a kloridionok komplexképződése miatt sok fém komplex, vízben oldódó ionokat hoz létre, ezzel elérve a tisztítás célját.
A radioaktív nyomjelző atomanalízis és a tömegspektrometriás analízis azt mutatja, hogy a szilícium lapkák tisztításának legjobb eredménye a hidrogén-peroxid rendszer használata, és az összes felhasznált kémiai reagens, a H2O2, NH4OH és HCl, teljesen elpárologtatható. A szilícium ostyák H2SO4 és H2O2 tisztítása során négyzetcentiméterenként körülbelül 2×1010 atom kénatom marad a szilícium lapka felületén, amely utóbbi savas tisztítóoldattal teljesen eltávolítható. A H2O2 rendszer használata a szilícium ostyák tisztítására nem hagy maradékot, kevésbé káros, és a munkavállalók egészsége és a környezet védelme szempontjából is előnyös. A szilíciumlapkák tisztítása során minden egyes tisztítóoldattal történő kezelés után azokat alaposan le kell öblíteni ultratiszta vízzel.