Hé! Az FZ szilícium -rúd beszállítójaként már jó ideje foglalkozom ezekkel a magas színvonalú szilíciumtermékekkel. Az FZ, vagy az úszó zóna, a szilícium -rúdok nagy tisztaságukról és kiváló elektromos tulajdonságaikról ismertek, amelyek a különféle iparágakban, különösen a félvezető gyártásában, a legfontosabb választássá teszik őket. De még a legjobb FZ szilícium -rúd is lehet bizonyos szennyeződések. Tehát, ássuk be azokat, amelyek általában a szennyeződéseket találták.
1. oxigén szennyeződések
Az oxigén az egyik legelterjedtebb szennyeződés az FZ szilícium rúdban. A gyártási folyamat során bejuthat a résbe. Az úszó zóna módszerében egy polikristályos szilíciumrúd megolvad és átkristályosítja. Az a környezet, amelyben ez a folyamat zajlik, nem teljesen levegő - szoros. Még a környező atmoszférában lévő oxigénmennyiség is reagálhat a szilíciummal.
Az oxigén szennyeződések pozitív és negatív hatásokkal is rendelkezhetnek. Pozitív oldalon egy kis mennyiségű oxigén javíthatja a szilícium mechanikai szilárdságát. Segít megelőzni a kristályhibák képződését a következő feldolgozási lépések során. De a flip oldalán túl sok oxigén vezethet oxigénnel kapcsolatos hibák kialakulásához. Ezek a hibák csapdákként működhetnek a töltőhordozók számára, ami lebonthatja az FZ szilícium -rúdból készített félvezető eszközök elektromos teljesítményét.
2. Szénszennyeződések
A szén egy másik általános szennyeződés. Különböző forrásokból írhatja be az FZ szilícium -rúdba. Az egyik fő forrás az olvadási folyamatban használt grafitszivárgók. A grafit egy jó hővezető, és gyakran használják a polikristályos szilíciumrúd melegítésére. Magas hőmérsékleten azonban a szénatomok diffundálhatnak a grafitból az olvadt szilíciumba.
A szén -dioxid -szennyeződések számos problémát okozhatnak. Szén -kapcsolódó hibákat képezhetnek a szilíciumrácsban. Ezek a hibák befolyásolhatják a kisebbségi hordozó élettartamát, amely a félvezető eszközök kritikus paramétere. A csökkentett kisebbség - a hordozó élettartama alacsonyabb eszköz hatékonyságához és teljesítményéhez vezethet. Ezenkívül a szén kölcsönhatásba léphet más szennyeződésekkel és oxigénnel is a szilíciumban, és olyan komplex hibásszerkezeteket képez, amelyekkel még nehezebb kezelni.
3. Fém szennyeződések
A fém szennyeződések valódi fejfájást jelentenek az FZ szilícium -ipari iparban. Számos fém található, amelyek megtalálhatók a rúdba. Néhány leggyakoribb a vas, a réz, a nikkel és az arany. Ezek a fémek a felhasznált alapanyagokból, a gyártóberendezésből vagy akár a környezetből származhatnak.
Például a vas széles körben elterjedt fém szennyeződés. Teher lehet a polikristályos szilícium alapanyagban, vagy az olvadási és feldolgozási lépések során szennyezi a rostot. A vas szennyeződések rekombinációs központként működhetnek a szilíciumban. Ez azt jelenti, hogy okozhatják az elektronok és lyukak rekombinációját, ami csökkenti a félvezető eszközök hatékonyságát. A réz- és nikkel szennyeződéseknek hasonló hatása is lehet. Mély szintű csapdákat képezhetnek a szilícium sávban, amely jelentősen lebonthatja az FZ szilícium -rúd elektromos tulajdonságait.
Az arany különösen érdekes fém szennyeződés. Bizonyos esetekben kis mennyiségű aranyat kell szándékosan hozzáadni az FZ szilíciumhoz, hogy ellenőrizzék a kisebbség - a hordozó élettartamát. De ha az aranykoncentrációt nem gondosan szabályozzák, akkor ez túlzott rekombinációhoz és csökkentett eszköz teljesítményéhez vezethet.
4. adalékanyag - Kapcsolódó szennyeződések
Az adalékanyagok olyan elemek, amelyeket szándékosan hozzáadnak a szilíciumhoz, hogy módosítsák annak elektromos tulajdonságait. Időnként azonban nem szándékos doppantókkal kapcsolatos szennyeződések fordulhatnak elő. Például, ha az adalékanyag -forrás nem tiszta, akkor más elemeket vezethet be a kívánt doppantral együtt.
A bór és a foszfor a FZ szilícium két leggyakrabban használt adalékanyag. De ha vannak szennyeződések a bór- vagy foszfor forrásokban, akkor ezek a szilícium -rúdba kerülhetnek. Ezek a nem kívánt szennyeződések megzavarhatják a gondosan szabályozott doppingprofilt, ami következetlen elektromos tulajdonságokhoz vezethet a félvezető eszközökben.
5. Hidrogén szennyeződések
A hidrogén szennyeződésként is jelen lehet az FZ szilícium rúdban. A gyártási folyamat során beléphet a szilíciumba, különösen, ha vannak hidrogén - a környezetben gázok. A hidrogén szennyeződések passziválhatják a szilícium néhány hibáját. Bizonyos esetekben ez hasznos lehet, mivel javíthatja a félvezető eszközök elektromos teljesítményét. A hidrogén ugyanakkor kölcsönhatásba léphet a szilícium más szennyeződéseivel és doppiumaival is, komplex hibát képezve - hidrogén komplexeket képezve. Ezeknek a komplexeknek kiszámíthatatlan hatása lehet az FZ szilícium -rúd elektromos tulajdonságaira.
Miért számít neked
Ügyfélként ezeknek a szennyeződéseknek a megértése elengedhetetlen. A szennyeződések jelenléte jelentősen befolyásolhatja a gyártott félvezető eszközök teljesítményét. A magas minőségű, alacsony szennyeződésű FZ szilíciumbotok elengedhetetlenek a megbízható és magas teljesítményű félvezető termékek előállításához.
Cégünknél nagyon gondoskodunk arról, hogy minimalizáljuk ezeket a szennyeződéseket2 hüvelykes - 8 hüvelykes FZ szilícium rés- Az állam - a - a művészeti gyártási folyamatokat és a szigorú minőség -ellenőrzési intézkedéseket használjuk annak biztosítása érdekében, hogy az FZ szilícium -rúdjaink megfeleljenek a legmagasabb színvonalnak. Vágásaink alacsony oxigén-, szén-, fém- és dopping -kapcsolódó szennyezősági szintekkel rendelkeznek, ami azt jelenti, hogy következetes és kiváló elektromos teljesítményt várhat el az Ön által készített félvezető eszközöktől.
Ha a magas minőségű FZ szilícium -rúd piacán tartózkodik, ne habozzon kapcsolatba lépni velünk. Mindig készen állunk arra, hogy részletes megbeszélést folytassunk az Ön sajátos követelményeiről és arról, hogy termékeink hogyan tudják megfelelni nekik. Függetlenül attól, hogy szükség van -e kis méretű mintákra a kutatáshoz vagy a nagy méretarányos termelési mennyiségekre, fedeztük Önt. Vegye fel velünk a kapcsolatot ma, hogy elindítson egy eredményes üzleti kapcsolatot, és vigye a félvezető gyártását a következő szintre.
Referenciák
- "Félvezető fizika és eszközök", Donald A. Neamen
- "Szilícium anyagtudomány és technológia" szerkesztette R. Hull és JC Bean